11月の優しい電塾は三名の参加者で結構にぎわう。3名でにぎわうってのも変だけど…いつも二人なので…何だかうれしい。実は3名の参加者があると、あたしとしてもそれなりに実入りがあるので…。

　前にシリコンメディアの台頭について書いたが、磁気ヘッドの記録密度も垂直磁気記録方式等でその集積度には目を見張るものがあるという。その技術の根幹をなすものは、プラターとヘッドの距離にある。従来、その距離はプラターの回転による風圧とヘッドの形状で浮上距離を稼ぐため、これをちかづける事が出来なかったらしい。
　今回の技術は、ヘッドに発熱体を仕込み、電流を流し、ヘッドとプラターとの距離を制御し、5ナノメートルというこれまでの半分の距離に近づけることに成功したのだという。これにより記録密度を1.2倍に高めることが出来るようになったのだそうだ。分速7200回転で失踪するガラス番の上に1mの10億分の一という距離で浮いている磁気ヘッド…。（１ナノは1mmの100万分の１。こんな距離って私たちには実現していることがすでに驚き）
　何だか気が遠くなるような話だ。工作精度としてこれを量産しているなんて…。